KOKUSAI ELECTRIC

■KOKUSAI ELECTRIC Way
KOKUSAI ELECTRICグループが掲げる企業理念です。「技術」と「対話」を軸に、半導体分野の課題を見つけ、解決し、創造と革新が生まれる未来を支える考え方を示しています。

■技術と対話で未来をつくる
同社のコーポレートスローガンです。「技術」は課題を解決する力、「対話」は課題や問題を発見する力として位置づけられています。顧客や社会の課題に向き合い、半導体分野の発展に貢献する姿勢を表しています。

■Tai-wa
同社が「対話」を表す言葉として用いる表現です。顧客との会話だけでなく、先端技術、自然環境、社会課題、自分自身と向き合う姿勢まで含めた考え方です。

■成膜プロセス
半導体デバイスの製造工程で、ウェーハに回路の素材となる薄膜などを形成する工程です。同社は半導体デバイスの性能を左右する重要な工程として、この領域に強みを持っています。

■トリートメントプロセス
成膜プロセスで形成した薄膜の膜質を改善する工程です。同社は成膜後にプラズマや加熱を使う装置を展開し、半導体デバイスの性能向上を支えています。

■バッチALD対応装置
複数のガスを周期的に供給し、原子層レベルで薄膜を形成する「ALD」に対応した装置です。数十枚以上のウェーハを一括処理できるため、難しい成膜と高い生産性を両立しやすい点が特徴です。

■Plasma Gate Modification Tools
同社が注力するトリートメント装置の領域です。成膜後の薄膜にプラズマを使って働きかけ、膜質を改善する装置を指します。半導体デバイスの複雑化に伴い、重要性が高まっている技術領域です。

■膜質改善
ウェーハ上に形成した薄膜の性質を整えることです。半導体デバイスの性能を高めるために重要な工程であり、同社のトリートメント装置が担う役割の一つです。

■酸化・拡散・アニールプロセス
半導体製造で使われる熱処理系の工程です。酸化は表面に酸化膜を形成する工程、拡散は不純物を広げる工程、アニールは加熱で膜や材料の性質を整える工程を指します。同社はこれらの工程を軸に事業を展開しています。

■半導体製造の前工程
ウェーハ上に回路を形成する半導体製造の前半部分です。同社はこの前工程の中でも、成膜やトリートメントに関わる装置を主力としています。

■中工程
前工程で培った技術を応用できる新たな領域として、同社が事業拡大を見込む工程です。資料では、アドバンストパッケージなどへの応用を通じて、事業の裾野を広げる方向性が示されています。

■アドバンストパッケージ
半導体の性能を高めるための先進的な実装技術領域です。同社は前工程で培った技術をこの領域へ応用し、新たな事業の柱に育てる考えを示しています。

■SiCパワー半導体デバイス
SiCを用いたパワー半導体デバイスです。電気自動車や太陽光発電で注目される分野として説明されています。同社は新たに開発したヒーターを導入し、生産性向上とエネルギー消費削減の両立をめざしています。

■装置ビジネス
同社が半導体製造装置を開発・製造・販売する事業です。主に成膜プロセス装置と枚葉トリートメントプロセス装置を扱い、半導体デバイスメーカーの高度な製品ニーズに対応しています。

■サービスビジネス
同社が販売した半導体製造装置のライフサイクル全体を支える事業です。部品販売、保守サービス、有償修理、装置の移設や改造などを通じて、顧客の生産性向上や装置活用を支援します。

■WFE市場
「Wafer Fab Equipment」の略で、半導体のウェーハ製造に使う装置市場を指します。同社は中期経営計画で、この市場を上回る事業成長をめざす方針を示しています。

■隠れた才能
トップメッセージで使われた表現です。海外グループ各社にいる人財の能力を見つけ出し、日本で専門性の高い技術を学ぶ機会につなげる考え方を表しています。