2026.10.02更新
用語解説
価値創造に関する情報ソースがAIによって要約されています。
情報ソース:
KOKUSAI ELECTRICグループ 統合報告書2026
■KOKUSAI ELECTRIC Way
「技術と対話で未来をつくる」をスローガンとし、技術の追求と誠実な対話を通じて創造と革新が生まれる未来を支えることを目指す、当社グループの企業理念体系です。
■バッチALD
複数のガスを交互に供給して原子層レベルで薄膜を形成するALD(Atomic Layer Deposition)技術と、一度に数十枚以上のウェーハを一括処理するバッチ成膜技術を組み合わせた、高品質な成膜と高い生産性を両立する技術です。
■枚葉プラズマトリートメント
成膜後の薄膜に独自のプラズマ方式でラジカルを供給し、不純物の除去や粒子の安定化を行うことで、低温環境下でも等方性やステップカバレッジに優れた膜質改善を高い生産性で実現する技術です。
■POR
「Process of Record」の略で、お客様の半導体製造プロセスにおいて製造装置の標準認定を受けることを指し、将来の量産ラインでの採用や売上規模を大きく左右する重要な認定です。
■TSURUGI
反応管の体積縮小により加熱・冷却時間やガスの出入りを効率化し、難易度の高い高品質成膜処理と量産に必要な生産性を両立させたミニバッチ式のALD対応装置シリーズです。
■MARORA
独自のプラズマ技術により潤沢なラジカルを生成し、幅広い温度範囲や高アスペクト比の複雑な構造において優れた膜質改善を実現する枚葉プラズマトリートメント装置です。
■Design for Service Business
製品開発の段階からサービス事業において重要な部分を特定し、特許や独自仕様の保護、装置の保守性向上などを考慮することで高付加価値なサービス提供を目指すコンセプトです。
「技術と対話で未来をつくる」をスローガンとし、技術の追求と誠実な対話を通じて創造と革新が生まれる未来を支えることを目指す、当社グループの企業理念体系です。
■バッチALD
複数のガスを交互に供給して原子層レベルで薄膜を形成するALD(Atomic Layer Deposition)技術と、一度に数十枚以上のウェーハを一括処理するバッチ成膜技術を組み合わせた、高品質な成膜と高い生産性を両立する技術です。
■枚葉プラズマトリートメント
成膜後の薄膜に独自のプラズマ方式でラジカルを供給し、不純物の除去や粒子の安定化を行うことで、低温環境下でも等方性やステップカバレッジに優れた膜質改善を高い生産性で実現する技術です。
■POR
「Process of Record」の略で、お客様の半導体製造プロセスにおいて製造装置の標準認定を受けることを指し、将来の量産ラインでの採用や売上規模を大きく左右する重要な認定です。
■TSURUGI
反応管の体積縮小により加熱・冷却時間やガスの出入りを効率化し、難易度の高い高品質成膜処理と量産に必要な生産性を両立させたミニバッチ式のALD対応装置シリーズです。
■MARORA
独自のプラズマ技術により潤沢なラジカルを生成し、幅広い温度範囲や高アスペクト比の複雑な構造において優れた膜質改善を実現する枚葉プラズマトリートメント装置です。
■Design for Service Business
製品開発の段階からサービス事業において重要な部分を特定し、特許や独自仕様の保護、装置の保守性向上などを考慮することで高付加価値なサービス提供を目指すコンセプトです。