2026年3月期有価証券報告書より

事業内容

セグメント情報
※セグメント情報が得られない場合は、複数セグメントであっても単一セグメントと表記される場合があります
※セグメントの売上や利益は、企業毎にその定義が異なる場合があります

レーザデバイス事業 レーザ・オプティカルソリューション事業 視覚情報デバイス事業 レーザアイウェア事業
  • 売上
  • 利益
  • 利益率

最新年度

セグメント名 売上
(百万円)
売上構成比率
(%)
利益
(百万円)
利益構成比率
(%)
利益率
(%)
レーザデバイス事業 1,173 85.5 128 - 10.9
レーザ・オプティカルソリューション事業 200 14.5 -136 - -68.0

 

3 【事業の内容】

当社グループ(当社及び当社の関係会社)は、当社、非連結子会社QD Laser Deutschland GmbH(ドイツ)、QD Laser America,Inc.(米国)で構成されております。

当社は半導体レーザ(※)技術を用いた製品の開発・製造・販売を行っており、レーザデバイス事業とレーザ・オプティカルソリューション事業を展開しております。非連結子会社QD Laser Deutschland GmbHはレーザ・オプティカルソリューション事業が取り組む視覚情報デバイス機器に関する欧州での治験結果の維持管理を目的としております。非連結子会社QD Laser America,Inc.は同じくレーザ・オプティカルソリューション事業が取り組む米国での網膜投影製品の販売対応を目的としております。

なお、2026年4月より、従来「視覚情報デバイス事業」としていた報告セグメントの名称を「レーザ・オプティカルソリューション事業」に変更しております。この変更は報告セグメントの名称変更のみであり、セグメント情報に与える影響はありません。なお、前事業年度及び当事業年度の報告セグメント情報についても、変更後の名称で開示しております。

 

当社のコア技術として、下記6点があります。

● 半導体結晶成長・・・MBE法(Molecular Beam Epitaxy法、分子線エピタキシー法)を用いて半導体結晶を半導体基板上に一原子層ずつ成長させる技術です。当社レーザ製品はこの半導体結晶から製造されます。

● レーザ設計・・・用途毎に所望の機能を満たす最適な半導体レーザを設計する技術です。例えば精密加工用半導体レーザでは15psの超高速パルスを実現しています。

● 小型モジュール・・・半導体レーザは半導体レーザチップをパッケージの中に実装しますが、そのパッケージのことをモジュールと言います。当社は波長532nmや561nmレーザを実装した世界最小クラスのモジュールを製品化しました。

● VISIRIUM Technology・・・超小型レーザプロジェクタから、網膜に直接映像を投影する技術です。

● 回折格子・・・半導体レーザ内部に波長を選択するための周期100ナノメートル程度の凹凸を作り込んでおり、これを回折格子と呼んでおります。これによって、レーザ波長の精密制御が可能になり、黄緑(561nm)、橙色(590nm)等の半導体レーザを商用化しました。

● 量子ドットレーザ・・・量子ドットレーザとは、直径約10nm(ウイルスの1/10程度のサイズ)の半導体量子ドットを活性層に用いて、光を増幅、発振する半導体レーザです。この量子ドットレーザは、1)摂氏マイナス40度から120度近辺まで電流無調整で動作する、2)200度以上の超高温でも動作する、3)高信頼で長寿命である、4)シリコンフォトニクスチップに低雑音でレーザ光を導入できる、という優れた特長を持っています。


※ レーザ(Laser)とは、Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation(誘導放出による光増幅放射)の頭文字を取ったもので、共振器を用いて電磁波を増幅して得られる人工的な光であり、指向性や収束性に優れ、また波長を一定に保つことができる等の物理的な特長があります。

 

(レーザデバイス事業)

当社のレーザデバイス事業は、結晶成長を自社で実施し、半導体レーザチップ加工及びモジュール実装を、社外協力会社に製造委託する水平分業体制によるファブレス製造を実現し、ハイエンド技術を基にした事業となっております。

当社は半導体レーザの特性を決める活性層成長を担っており、特に量子ドットの結晶成長については他社にはないノウハウを有しております。また、研究機関からの基礎技術の研究開発や、メーカの新規アプリケーションの光源開発を行う開発受託業務も行っています。

 

当社の技術が使われている製品は以下のとおりとなっております。

名称

用途等

 

1240-1310nm量子ドットレーザ


 

 

半導体レーザの活性層(発光部)に量子ドット構造を採用しており、温度安定性に優れ、高温にて動作可能です。この温度安定性により、従来の量子井戸レーザ(※)に比べてレーザの評価や調整を極めて容易に行うことができます。波長1300nm帯でレーザ発振するため、データ通信用の光源として利用されています。

※量子井戸レーザとは、一般に使用される光通信用レーザです。

 

1300nm高温度動作量子ドットレーザ

 


 

 

150℃以上での動作に耐性のある波長1300nm量子ドットFPレーザです。このレーザは砂漠や工場、地中資源探査といった過酷な温度環境下でのデータ伝送やセンシング等様々な応用に適しております。

 

シリコンフォトニクス用量子ドットレーザ


 

 

量子ドットレーザは、1)温度が100℃以上の高温のCPUの近くでも安定して動作する、2)反射戻り光に強いためアイソレータが不要となり低コスト化できる、3)高温度で動作させても長寿命である、という3つの特長があり、シリコンフォトニクス用光源として光コネクタ、チップ間インターコネクトやLiDARなどへの適用・検討が進められております。シリコンフォトニクスチップの設計に合わせて、単一チャネル型だけではなく複数の発光点を持つマルチチャネル型も作製することができます。

 

 

1020-1180nm材料加工・センサ用DFBレーザ


 

 

波長1020-1180nmの単一モードDFBレーザで、連続動作から短パルス動作まで極めて安定に動作します。

単一モード安定性は、精密加工用、LiDAR用、ウエハ表面検査用ファイバレーザの種光、ガスセンシング等様々な応用に適しております。

 

 

640-905nm高出力FPレーザ(モニタPD付き)

 


 

 

波長640,660,685,785,830,850及び905nmの高出力ファブリペローレーザで、マシンビジョン、パーティクルカウンター、モーションセンシング、セキュリティ、半導体ウエハ自動搬送機及びレベラー等の様々な産業用途に最適です。

 

532,561,594nm小型可視レーザモジュール

 


 

 

半導体DFBレーザと非線形光学素子PPLN(周期的分極反転ニオブ酸リチウム)を組み合わせた波長変換技術により、低消費電力を実現しております。DPSS(半導体励起固体)レーザと異なり、100MHzまでのパルス変調動作やピコ秒での動作が可能です。顕微鏡、フローサイトメータ、セルソータ、分光及びセンシング等のアプリケーションに使用されています。

 

高品質エピタキシャルウエハ

 


 

 

様々な光デバイス・電子デバイス用途に、カスタマイズした分子線エピタキシー(MBE)装置を用いたGaAs基板上の高品質エピタキシャルウエハです。量子ドットウエハには、データコム用温度安定レーザや、220℃までの高温度環境で動作するレーザで、世界最高水準の量子ドット技術が適用されております。

 

 

Lantana

 


 

 

波長532,561,594 nmの小型可視レーザとドライバを内蔵したオールインワン型のユニットです。超小型ながらプラグアンドプレイが可能で、シリアル通信制御の単一波長光源のため、バイオメディカル用装置の小型化や設計自由度の向上に貢献いたします。

 

 

 

上記製品を搭載している主な製品機器の一例として、次のようなものがあります。

1.光通信・シリコンフォトニクス(※1)

名称

用途等

製品特性・概要

 

シリコンフォトニクス

 


 

 

シリコン基板上に光機能素子を集積し、低コストで高性能な光回路を実現する技術です。現在は量子井戸レーザが使用されていますが、量子ドットレーザを用いたデータ通信、ボード間・LSIチップ間通信やLiDAR等の開発が進められています。

 

量子ドットレーザを使用することにより、温度が100℃以上の高温のCPUの近くでも安定して動作する、反射戻り光に強いためアイソレータが不要となり低コスト化できる、高温度で動作させても長寿命である、という3つの特長があります。

 

 

 

2.バイオ系検査装置

名称

用途等

製品特性・概要

 

フローサイトメータ(※2)

(細菌検査装置)


 

細胞の測定装置で、細胞の浮遊液や懸濁液を細管に通し、細胞数の計測、蛍光や散乱光の測定等を、短時間で多量に行います。分子生物学、病理学、免疫学、植物生物学、海洋生物学等各種分野にて応用されております。

 

世界初の緑・黄緑・橙半導体レーザです。

1μm帯DFBレーザ技術と波長変換技術を組合せた小型モジュールになります。黄緑・橙色は直接半導体では発光できない波長帯で、独自の技術をもって実現しております。

小型・低消費電力特性を活かし、フローサイトメータ(細胞検査装置)やバイオメディカル用顕微鏡光源として採用されております。

 

蛍光顕微鏡


 

 

蛍光タンパク質や蛍光抗体を標識に用いて、細胞やタンパク質を生きたままで観察できる顕微鏡で、生物学・医学における研究、臨床検査、浸透探傷検査等に使用されております。

 

 

3.精密加工

名称

用途等

製品特性・概要

 

ファイバレーザ(※3)


 

 

固体レーザ(※4)の一種ですが従来の固体レーザに比べ、繰り返し周波数の自由な設定が可能、ビーム品質が高い、小型軽量で電気-光変換効率が高い、長寿命といった特長があり、金属やセラミック、ガラス等のマーキング、微細加工、溶接、切断等に使用されます。

 

1064nm帯短パルスレーザを使用することにより、結晶成長技術、グレーティング設計技術、半導体レーザ設計技術により1064nmDFBレーザのナノ秒、ピコ秒の短パルス動作を実現しております。

ナノ秒・ピコ秒の短パルス特性を活かし、ファイバレーザの種光として、多くのファイバレーザメーカに採用されております。

 

 

4.各種センサ

名称

用途等

製品特性・概要

 

パーティクルカウンター(※5)

 


 


 

 

マシンビジョン(※6)

 


 

 

空気中や液体中にある塵・ホコリ・異物・ダスト等をカウントする計測器で、工業用クリーンルームと医薬品・食品及びバイオテクノロジー分野向けとして、主に空気中の浮遊微粒子や微生物を制御・管理したクリーンルームやクリーンベンチの管理目的で使用されます。

 

640,660,685,785,830,850及び905nmでレーザ発振する半導体レーザで各種センサ、マシンビジョン、パーティクルカウンター、水準器、血液検査計、距離計、半導体ウエハ自動搬送機等の産業用途にレーザを提供しております。

 

光電センサ


 

 

物体の有無や表面状態の変化等を検出するセンサで、工場等での外観検査、自動搬送器、駅のホームドア等幅広い用途に使用されます。

 

半導体ウエハ自動搬送機

 


 

 

半導体工場内のウエハ自動搬送機に搭載されたレーザを照射し、他機との距離を検出することで衝突を回避します。

 

 

 

 

名称

用途等

製品特性・概要

 

距離計

 


 

 

スマートフォンのイヤホンジャックに挿して電源を入れ、計測ガイド(測定点を表示するガイド)用のレーザを照射させ、部屋の壁面等2点間の距離を測定します。

 

同上

 

 

(レーザ・オプティカルソリューション事業)

レーザ・オプティカルソリューション事業は、網膜投影技術を使ったXRグラス用の光学ディスプレイユニットの開発、半導体レーザ・光学技術を応用した産業機器用の光学モジュール・光学ユニットのファブレス製造・販売、および網膜投影製品の企画・開発とファブレス製造を行っています。

ファブレス製造とは、製品の企画、設計を自社内で行い、部品及び最終製品の製造及び組立てを協力会社に委託する形態です。当社は、部品及び最終製品の製造・調整に必要な製品仕様、部品リスト、部品仕様書、回路図、実装図、プリント配線板製造データ、組み立て指示書、検査指示書、ソフトウエアを協力会社に供給し、製造および検査を委託しております。

また販売に関しましては、法人顧客から試作品や製品の開発を受託するもの、法人顧客へ直販及び代理店経由で販売するもの、一般顧客向けに販売パートナー(代理店、通販業者)を通じて販売するものが有り、各々の製品・サービスの取組みに応じた販売活動を行っております。

網膜投影技術とは、超小型レーザプロジェクタからVISIRIUM Technologyにより網膜に直接画像を投影し、装着者の視力やピント位置に影響を受けることなく(フリーフォーカス)、カメラの撮像画像や外部入力されたデジタル情報を提示できる技術で、以前に製品化していた網膜走査型レーザアイウェアの基幹技術です。XRグラス用の光学ディスプレイユニットの技術開発を中心に網膜投影技術の開発を継続して進めており、フリーフォーカスに加えて網膜への投影範囲を大きく拡大し、周辺部にまで明るく鮮明な映像を届けられる技術です。

 

 

 

網膜投影技術の仕組みは以下のとおりとなります。

 


 

当事業における取扱い製品とサービスは以下の通りとなります。

 

    網膜投影技術を使った製品は、メガネ型民生用機器、医療用機器、非メガネ型民生用機器を販売しておりましたが、現在は以下の通りの取扱いとしております。医療用機器については2024年度に販売を終了しました。メガネ型民生用機器は、「RETISSA Display」を2018年7月に販売を開始、「RETISSA DisplayⅡ」を2019年12月に販売を開始、RETISSA DisplayⅡ向けの専用のアクセサリカメラ「RD2CAM」を2021年8月から販売開始しましたが、全機種の販売を終了致しました。

②   非メガネ型民生用機器として「RETISSA ONHAND」を2023年3月に販売を開始し、「RETISSA MEOCHECK NEO」を2025年10月に代理店を通じて販売を開始いたしました。現在も、両製品は代理店を通じて販売しております。

③   新たな非メガネ型民生用機器として「RETISSA VIEWCLEAR」のテストマーケティングを2026年5月より開始いたしました。本製品は、網膜投影技術を用いたスマートフォン装着型の手持ちディスプレイです。従来の「RETISSA ON HAND」と比較してさらなる小型・軽量化を実現し、映像もより鮮明に視認できるようになりました。

④   XRグラス向けの網膜投影技術を用いた光学ディスプレイユニットの開発を進めております。同グラスの基幹部材を開発する顧客企業との共同開発契約に基づき、試作品の開発を行っております。顧客企業は、市場が急成長しているAIグラスをはじめとするXRグラスのメーカーへの、当該技術を活用した光学ディスプレイユニットの提供を目指しております。両社の連携により、当該技術のさらなる普及と活用の促進を図ってまいります。

⑤   半導体レーザ技術や網膜投影技術をコアに、産業機器用光学モジュール・光学ユニットの開発・製造・販売を開始しました。具体的には、半導体レーザとMEMSを組み合わせた光学ユニットや、光の3原色(赤、青、緑)をはじめとする各種波長のレーザを組込んだ多波長モジュールを提供しており、標準製品の提案だけでなく、顧客の要望に応じたカスタム品にも対応しております。現在、これら半導体レーザ搭載製品の需要が高まっており、受注活動も活発に推進中です。今後は、網膜投影技術やその派生技術への顧客ニーズを的確に捉え、さらなる製品開発と提供に取り組んでまいります。

 

(網膜投影技術を使った非メガネ型民生用機器)

名称

用途等

 

「RETISSA ON HAND」

 


民生機器「RETISSA ON HAND」は、2023年3月に販売を開始し、現在は代理店を通じて展開しております。2024年3月には米国市場への進出を果たしました。

本製品は、レーザ網膜走査技術を応用・発展させ、手持ち型ディスプレイで文化・芸術施設やスポーツ施設への導入、利用が進んでおります。

 

 

「RETISSA MEOCHECK NEO」


民生機器「RETISSA MEOCHECK NEO」はレーザ網膜投影技術を応用した、眼のセルフチェックができる小型装置です。

 

「RETTISA VIEWCLEAR」

 


(製品にスマートフォンは含まれません)

民生機器「RETISSA VIEWCLEAR」は網膜投影技術を用いた手持ち型ディスプレイで、スマートフォンに装着可能な小型・軽量の製品です。RETISSA ON HANDと比較して、小型で映像もより鮮明に視認できます。2026年5月よりテストマーケティングを開始いたしました。

 

 

(半導体レーザ技術・網膜投影技術を使った産業向け光学モジュール・光学ユニット)

光学ユニット



レーザ+MEMS

多波長モジュール

 

当社の網膜投影機器はレーザとMEMSを組み合わせたモジュールや光の3原色(赤、青、緑)を束ねたモジュールを使用しております。その技術を産業用途に活用すべくレーザ+MEMSモジュールや多波長モジュールの販売を2025年度より開始いたしました。

 

 

(事業構造について)

当社の事業構造につきましては、下記のとおりとなっております。

(レーザデバイス事業)

独自技術を駆使した半導体ウエハを作成し、協力会社に当該ウエハを組み込んだ半導体レーザチップの作製及びモジュールの実装を委託し、当社で品質基準への適合性を検査した後、お客様に製品をお届けしております。

 

(レーザ・オプティカルソリューション事業)

網膜投影技術を使った民生用機器や光学モジュール・光学ユニットの開発を行い、ファブレス形態にて製造・販売しております。一般顧客向けには販売パートナーを通じて提供し、法人顧客向けには直接または代理店経由にて受注を行っております。製造面においては、当社が策定した仕様書に基づき、協力会社へパーツ製造や最終製品の組立を委託しております。当社における最終検査を経て、販売パートナーまたは直接お客様へ製品をお届けする体制を構築しております。なお、法人顧客から技術開発を受託する場合も同じ事業構造です。

 

当社の「レーザデバイス事業」及び「レーザ・オプティカルソリューション事業」の事業系統図は以下のとおりとなります。

 


 

本項「3.事業の内容」にて使用しております用語の定義について以下に記します。

 

No

用語

用語定義

 

 

シリコンフォトニクス

 

 

シリコンフォトニクスとは、 LSI(大規模集積回路)やIC(集積回路)に使用されるシリコン基板上に、光集積回路を作製し、様々な光機能をシリコン上に作製する技術です。

 

 

 

フローサイトメータ

 

 

 

フローサイトメトリーと呼ばれる分析手法に用いられる分析装置です。主に細胞を個々に観察する際に用いられます。フローサイトメトリーとは、細胞を含む流体にレーザ光を当てて、その散乱光や蛍光検出により細胞を特定する手法です。

 

 

 

ファイバレーザ

 

 

 

ファイバレーザとは、希土類を添付した光ファイバを増幅媒体とするレーザの一種です。光ファイバ、種光、励起光で構成されております。ビーム品質が高い、小型化可能、長寿命と従来の固体レーザに比べてメリットが多いです。

固体レーザ

固体レーザとはYAG結晶等の絶縁性固体材料を増幅媒質とするレーザです。

 

 

 

 

 

 

 

パーティクルカウンター

 

 

 

 

 

 

 

パーティクルカウンター(Particle Counter)とは、空気中や液体中にある塵・ホコリ・異物・ダスト等をカウントする計測器のことで、日本では微粒子計と呼ばれることもあります。
 パーティクルカウンターは、一般にICR(Industrial Clean Room)と呼ばれる工業用クリーンルームと、BCR(Biological Clean Room)と呼ばれる医薬品・食品及びバイオテクノロジー分野向けとして、主に空気中の浮遊微粒子や微生物を、制御・管理したクリーンルームやクリーンベンチの管理目的で使用されております。

 

 

 

 

 

マシンビジョン

 

 

 

 

 

マシンビジョン(Machine Vision, MV)とは、産業(特に製造業)でのコンピュータビジョンの応用を意味し、自動検査、プロセス制御、ロボットのガイド等に使われます。

コンピュータビジョン(人間の視覚システムをコンピュータが代替する技術)とは、ロボットの目の役割(様々な自動機械が画像認識をする)を果たすものです。

 

 

回折格子形成

 

 

半導体レーザにおいて単一波長で発振するレーザを、DFB(Distributed Feedback)レーザと呼んでおります。波長を選択するためにレーザ内部に周期的な凹凸を形成しますが、それを回折格子形成と呼びます。

 

 

 

クラッド再成長

 

 

 

半導体レーザ用結晶の成長においては、まず半導体レーザの発光層となる量子ドットや量子井戸を形成します。その後、波長を選択する回折格子を形成します。その上部に光を閉じ込める層であるクラッド層を形成します。この層を形成する工程をクラッド再成長と呼びます。

 

 

電極プロセス

 

 

半導体レーザ作製には、クラッド再成長後に光を導波させるためのメサ構造や、電流を注入するための電極形成が必要になります。それらの工程を総称して電極プロセスと呼びます。

10

 

端面コート

 

半導体レーザをレーザ発振させるために、チップ前後に光を反射させる膜を形成する必要があります。この膜形成の工程を端面コートと呼びます。

11

 

チップ選別検査工程

 

協力会社にて作製した半導体レーザチップを、当社において光出力や波長を検査する工程をチップ選別検査工程と呼びます。

12

 

 

 

光学調整

 

 

 

網膜投影製品では、光の三原色であるRGBの半導体レーザの光が精密に設計された光学系によって導かれ、画像を投影します。光学系に関わるパーツでは、投影の品質や安全性が担保できるよう、あらかじめ定められた基準に従った調整を行います。

13

 

光学・外観検査

 

完成した製品は、消費生活用製品安全法やあらかじめ定められた基準に適合していることを確認するために検査されます。

 

業績状況

 

4 【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】

(1) 経営成績等の状況の概要

当社の財政状況、経営成績及びキャッシュ・フロー(以下「経営成績等」という)の状況の概要は以下のとおりであります。

 

① 経営成績の状況

当事業年度における世界経済は、米国新政権による保護主義的な通商政策の動向を背景に国際貿易の先行き不透明感が続くなか、中東情勢やウクライナ紛争の長期化、各国の金融・通商政策に伴う為替や物価の変動などにより、不安定な状況で推移しました。主要国においては金融引き締めの影響から景気減速感が見られる一方、サービス需要を中心に底堅い動きも見られましたが、地政学リスクの長期化や資源国・中東地域を巡る情勢変化への警戒感もあり、全体として先行き不透明な状況が継続しました。

わが国経済においては、物価高の継続や実質賃金の伸び悩みが個人消費の回復を抑制する要因となるなか、消費には一部持ち直しの動きが見られたものの、海外経済の減速や米国通商政策の影響を受け、輸出や設備投資には慎重な姿勢が見られました。また、政権交代を受けた経済・産業政策の方向性を見極める動きに加え、為替相場の変動やコスト上昇への警戒感もあり、企業マインドは総じて力強さを欠く状況で推移しました。このような環境のもと、国内経済の先行きについては引き続き不透明な状況が続いております。

このような環境下、当社は2025年6月24日付で代表取締役が交代し、新たな経営体制のもとで、より一層の事業推進とスピード感ある経営を図っております。2024年11月14日に発表した中期経営計画に沿って、2027年3月期での黒字化の実現を目指し、強みのある事業の更なる成長に向けた取組みと事業領域の再構築を進めています。また、2026年3月12日に公表したとおり、会社を神奈川県川崎市から神奈川県横浜市に移転し、本社および横浜戸塚サイト(YTS)の2拠点での稼働を4月より開始しております。新たな拠点体制のもと、事業基盤の強化を進めるとともに、各拠点の機能を活かしながらより一層の事業成長を図ってまいります。

また、中小企業庁が推進する「100億宣言」に参画し、今後10年間で売上高100億円超の達成を目指す中長期の成長ビジョン『10 by 10 to 100』を掲げるとともに、同宣言に並行して中小企業成長加速化補助金を申請し、2025年9月19日に採択が決定され、2025年12月19日に5億円の補助金交付が決定されました。本宣言は、持続的な成長を実現するために必要な経営資源の確保と、成長基盤の構築に取り組む当社の姿勢を示すものです。補助金交付決定後には将来の増産対応と研究開発の加速を目指して結晶成長装置の増設を決定し、装置の発注を行いました。加えて、2026年3月12日に公表したとおり、当該装置の購入資金として、株式会社りそな銀行より無担保無保証で710,000千円の融資を受けることを決定し、2026年3月に330,000千円、2026年4月に380,000千円の借入による資金調達を行っております。引き続き資本効率を意識した投資と組織体制の整備を行い、成長ビジョンの実現と企業価値の向上に取り組んでまいります。なお、2026年4月より、従来「視覚情報デバイス事業」としていた報告セグメントの名称を「レーザ・オプティカルソリューション事業」に変更しております。この変更は報告セグメントの名称変更のみであり、セグメント情報に与える影響はありません。

具体的な取り組みとしては、オールインワン小型可視レーザ「Lantana」製品の受注開始をはじめ、新波長の小型可視レーザ、半導体検査用超高速DFBレーザ等の開発を継続してまいりました。また、レーザ・オプティカルソリューション事業の構造転換施策として、アイトラッキング駆動システムを含む次世代アイウェア向け光学ユニット共同開発及びスマートフォン装着型網膜投影機器や産業機器用光学モジュール・光学ユニットの開発を推進してまいりました。スマートフォン装着型網膜投影機器に関しては2026年5月よりテストマーケティングを開始しました。

他方、2025年6月5日に公表したとおり、眼のセルフチェックツール「MEOCHECK」に関して、判定結果が受診勧奨にあたることから自主回収を進めてまいりましたが、2025年10月16日に公表したとおり、製品回収及びソフトウェアの改修を完了し、現在はMEOCHECK NEOとして新たなスタートを切っております。今後も引き続き、製品の品質・安全性確保及び法令の遵守に万全を期してまいります。

当社製品の販売状況としては、レーザデバイス事業の分野では売上高は前事業年度から増加しました。製品別では高出力レーザ、量子ドットレーザが前事業年度から増収となりましたが、DFBレーザ、小型可視レーザが前事業年度から減収となりました。レーザ・オプティカルソリューション事業の分野では、開発受託増収により売上高は前事業年度から増加しました。

この結果、当事業年度の売上高は1,372,801千円(前事業年度比4.9%増)、レーザ・オプティカルソリューション事業の構造転換、販売方針変更による販路等構築途上のために依然として販売費及び一般管理費が売上総利益を上回り、営業損失は326,213千円(前事業年度は営業損失445,689千円)、経常損失は305,758千円(前事業年度は経常損失443,547千円)、当期純損失は357,147千円(前事業年度は当期純損失445,768千円)となりました。

 

セグメントごとの経営成績は次のとおりであります。

なお、2026年4月より、従来「視覚情報デバイス事業」としていた報告セグメントの名称を「レーザ・オプティカルソリューション事業」に変更しております。この変更は報告セグメントの名称変更のみであり、セグメント情報に与える影響はありません。

a.レーザデバイス事業

当事業年度におきましては、売上高は、DFBレーザが加工装置用光源の需要減少等により5.9%、小型可視レーザが顕微鏡用光源の需要減少等により5.5%、それぞれ前事業年度から減少しましたが、高出力レーザが照明用光源増加等により9.4%、量子ドットレーザが研究開発用途向けの増加等により76.3%、それぞれ前事業年度から増加しました。

この結果、当事業年度の売上高は1,173,248千円(前事業年度比4.7%増)、セグメント利益は128,212千円(前事業年度比9.2%減)となりました。

 

b.レーザ・オプティカルソリューション事業

当事業年度におきましては、売上高は、セルフチェックサービスが前述の自主回収等の影響により売上が計上されなかったことなどから、網膜投影製品ビジネスの売上高は前事業年度から97.1%減少しました。一方で、次世代網膜投影型アイウェア(スマートグラス)に向けたアイトラッキング駆動システムの開発を中心とした各種要素技術開発の受注が拡大し、開発受託売上は前事業年度から28.0%増加しました。

この結果、当事業年度の売上高は199,552千円(前事業年度比6.1%増)、セグメント損失は135,781千円(前事業年度はセグメント損失311,751千円)となりました。

 

② 財政状態の状況

(資産)

当事業年度末における総資産は前事業年度末から60,072千円増加し、5,565,940千円となりました。流動資産は3,698,681千円となり、前事業年度末から856,199千円減少しております。これは現金及び預金が1,013,068千円、売掛金の回収等により売掛金が48,005千円減少した一方、部材調達により原材料及び貯蔵品が66,347千円、移転先施設への投資による消費税発生により未収入金が54,309千円、本社移転に伴い、移転元への差入保証金が固定資産から流動資産に振り替わったことにより22,415千円増加したこと等によるものであります。固定資産は1,867,259千円となり、前事業年度末から916,271千円増加しております。これは主に本社移転に伴う内装工事完了、結晶成長装置契約金支出により有形固定資産が665,087千円、新社屋の建設協力金拠出等により投資その他の資産が251,881千円増加したこと等によるものであります。

 

(負債)

当事業年度末における負債は前事業年度末から379,311千円増加し、665,913千円となりました。流動負債は348,158千円となり、前事業年度末から92,062千円増加しております。これは主に長期借入発生により1年内返済予定の長期借入金が41,250千円、旧拠点退去が1年以内に履行されると見込まれることにより資産除去債務が28,463千円、試作材料費・新拠点工事費の増加に伴い未払金が58,804千円増加した一方、仕入代金決済により買掛金が18,616千円減少したこと等によるものであります。固定負債は317,754千円となり、前事業年度末から287,248千円増加しております。これは主に金融機関からの借入により長期借入金が288,750千円増加したこと等によるものであります。

 

(純資産)

当事業年度末における純資産は前事業年度末から319,238千円減少し、4,900,027千円となりました。これは主に利益剰余金が当期純損失の計上により357,147千円減少したこと等によるものであります。

 

③ キャッシュ・フローの状況

当事業年度末における現金及び現金同等物(以下、「資金」という。)は、2,741,356千円(前事業年度末比1,013,068千円の減少)となりました。

当事業年度における各キャッシュ・フローの状況は、次のとおりであります。

 

(営業活動によるキャッシュ・フロー)

当事業年度における営業活動の結果減少した資金は481,077千円(前事業年度は506,823千円の減少)となりました。主な資金減少要因は税引前当期純損失356,736千円、棚卸資産の増加75,401千円、長期前払費用の増加109,673千円、仕入債務の減少18,616千円、その他の流動資産の増加55,322千円であり、主な資金増加要因は減価償却費98,223千円、その他の流動負債の増加28,094千円によるものであります。

 

(投資活動によるキャッシュ・フロー)

当事業年度における投資活動の結果減少した資金は886,682千円(前事業年度は568,605千円の減少)となりました。主な資金減少要因は有形固定資産の取得による支出730,896千円、長期貸付けによる支出146,695千円であります。

 

(財務活動によるキャッシュ・フロー)

当事業年度における財務活動の結果増加した資金は355,712千円(前事業年度は9,512千円の減少)となりました。主な資金増加要因は長期借入れによる収入330,000千円であります。

 

④ 生産、受注及び販売の実績

当事業年度における生産実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。

(a) 生産実績

セグメントの名称

金額(千円)

前年同期比(%)

レーザデバイス事業  

746,094

105.00

レーザ・オプティカルソリューション事業

75,786

48.72

合計

821,881

94.89

 

(注) 1.金額は製造原価によっており、セグメント間取引については相殺消去しております。

2.上記の金額には、「第5 経理の状況 1 財務諸表等(1)財務諸表 注記事項 (重要な会計上の見積り)」に記載の棚卸資産の評価損が含まれております。

 

(b) 仕入実績

当事業年度における仕入実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。

セグメントの名称

金額(千円)

前年同期比(%)

レーザデバイス事業  

582,030

110.09

レーザ・オプティカルソリューション事業

68,613

78.52

合計

650,643

105.61

 

(注) 1.金額は仕入価格によっており、セグメント間取引については相殺消去しております。

 

(c) 受注実績

当事業年度における受注実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。

セグメントの名称

受注高(千円)

前年同期比

(%)

受注残高

(千円)

前年同期比

(%)

レーザデバイス事業  

1,353,783

117.90

515,211

154.44

レーザ・オプティカルソリューション事業

200,965

109.01

3,737

160.76

合計

1,554,748

116.67

518,949

154.48

 

(注) 1.金額は販売価格によっており、セグメント間取引については相殺消去しております。

 

(d) 販売実績

当事業年度における販売実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。

セグメントの名称

金額(千円)

前年同期比(%)

レーザデバイス事業 

1,173,248

104.69

レーザ・オプティカルソリューション事業

199,552

106.06

合計

1,372,801

104.88

 

(注) 1.セグメント間の取引については相殺消去しております。

2.主な相手先別の販売実績及び当該販売実績の総販売実績に対する割合は次のとおりであります。

 

相手先

前事業年度

(自 2024年4月1日

 至 2025年3月31日)

当事業年度

(自 2025年4月1日

 至 2026年3月31日)

金額(千円)

割合(%)

金額(千円)

割合(%)

日本電計株式会社

190,955

14.59

243,654

17.75

株式会社彩世

152,029

11.07

Beckman Coulter, Inc.

166,665

12.73

Fabrinet Co., Ltd.

160,723

12.28

 

(注)前事業年度における株式会社彩世及び当事業年度におけるBeckman Coulter, Inc.、Fabrinet Co., Ltd.に対する販売実績は、総販売実績に対する割合が10%未満のため記載を省略しております。

 

(2) 経営者の視点による経営成績等の状況に関する分析・検討内容

経営者の視点による当社の経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容は次のとおりであります。

なお、文中の将来に関する事項は、提出日現在において判断したものであります。

① 重要な会計方針及び見積り

当社の財務諸表は、わが国において一般に公正妥当と認められている会計基準等に基づき作成されております。その作成には経営者による会計方針の選択・適用、資産・負債や収益・費用の報告金額及び開示に影響を与える見積りを必要とします。経営者は、これらの見積りについて、過去の実績等を勘案し合理的に判断していますが、実際の結果は、見積り特有の不確実性があるため、これらの見積りと異なる場合があります。

当社の財務諸表で採用する重要な会計方針及び見積りは「第5 経理の状況 1 財務諸表等(1)財務諸表 注記事項 (重要な会計方針)」及び「第5 経理の状況 1 財務諸表等(1)財務諸表 注記事項 (重要な会計上の見積り)」に記載しております。

 

② 経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容
(a) 経営成績の分析
a.売上高

当事業年度における売上高は1,372,801千円(前事業年度比63,931千円の増加)となりました。これは主に、高出力レーザ、量子ドットレーザ及びレーザ・オプティカルソリューション事業が前事業年度から増収となり、DFBレーザ、小型可視レーザの前事業年度比減収を上回ったことによるものであります。

b.売上原価、売上総損失

当事業年度における売上原価は794,485千円(前事業年度比70,529千円の減少)となりました。これは主に前事業年度の棚卸資産の評価損が多額なものであったことから、それが減少したことによるものであります。この結果、売上総利益は578,315千円(前事業年度比134,460千円の増加)、売上高総利益率は42.1%(前事業年度は33.9%)となりました。利益率の増加は主に棚卸資産の評価損の減少によるものであります。

c.販売費及び一般管理費、営業損失

当事業年度における販売費及び一般管理費は904,529千円(前事業年度比14,984千円の増加)となりました。これは主に、試作材料費の拡充や人員増加による人件費増加等によるものであります。この結果、営業損失は326,213千円(前事業年度は営業損失445,689千円)となりました。

d.営業外収益、営業外費用、経常損失

当事業年度において、受取利息、為替差益等により営業外収益が25,873千円(前事業年度比15,216千円の増加)、租税公課等により、営業外費用が5,418千円(前事業年度比3,096千円の減少)発生しております。この結果、経常損失は305,758千円(前事業年度は経常損失443,547千円)となりました。

e.特別利益、特別損失、当期純損失

当事業年度において、本社移転に伴う二重家賃等により特別損失が50,977千円発生しております(前事業年度は未発生)。この結果、当期純損失は357,147千円(前事業年度は当期純損失445,768千円)となりました。

 

③ 資本の財源及び資金の流動性についての分析

当社の運転資金需要のうち主なものは、材料仕入、外注費、人件費、販売費及び一般管理費等の営業費用であります。投資を目的とした資金需要の主なものは半導体レーザウエハ結晶成長装置、小型可視レーザ製造装置、測定装置等の機械及び装置等であります。

運転資金、投資資金ともに自己資金から確保することを基本としつつ、事業拡大や投資機会に対して機動的に対応するため、金融機関からの借入を含めた多様な資金調達手段を確保することを方針としております当事業年度末の現金及び現金同等物は2,741,356千円であり、現状の事業運営に必要な運転資金、投資資金は十分であると考えておりますが、500,000千円の金融機関のコミットメントライン枠を有しているほか、金融機関1行から設備投資用途の長期借入金330,000千円を借入ました。2026年4月にも380,000千円を借入ており、今後も必要に応じて銀行借入を中心とした調達手段を検討してまいります。

 

④ 経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等の分析・検討

当社の経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標は売上高総利益率であり、当事業年度の売上高総利益率は42.1%(前事業年度は33.9%)となりました。これは主に前事業年度においてはレーザ・オプティカルソリューション事業の棚卸資産の評価損が多額なものであったことから、それが減少したことと、レーザデバイス事業における価格見直し等のためであります。今後も売上高総利益率を高めていく方針ではありますが、今後はフリー・キャッシュ・フローの増加に重点を置き、EBITDAを指標といたします。2027年3月期についてはEBITDAの目標を1.1億円としております。

レーザデバイス事業の指標は量産認定製品数であり、目標116製品に対して、当事業年度末の量産認定製品数は124製品(前事業年度末は107製品)で前事業年度末から15%増加となりました。今後も量産認定製品数、認定顧客を増やしていく方針です。

レーザ・オプティカルソリューション事業の指標としましては、事業領域の再構築を図っているところであり、新たな指標は未定となっておりますが、当面は光学モジュール・光学ユニット認定顧客数を客観的指標といたします。

 

⑤ 経営成績に重要な影響を与える要因について

当社の事業に重要な影響を与える要因の詳細につきましては、「第2 事業の状況 3 事業等のリスク」に記載のとおりであります。