トリケミカル研究所

■「ニッチの束」モデル
半導体製造で使われる用途特化の化学薬品を、少量でも高付加価値の品目として数多く揃え、束ねることで大きな収益源にする考え方です。大量汎用品ではなく、工程や装置ごとに最適化した“尖った製品”を積み上げます。

■少量多品種
一つあたりの生産量は小さいが、品目数を非常に多く持つ生産・供給の方針を指します。半導体の工程や装置の違いに合わせて配合や純度を細かく変え、きめ細かく対応します。

■高純度化学薬品
半導体製造で不純物が歩留まりに直結するため、極めて高い純度（微量不純物を極限まで抑えた状態）で供給される薬品のことです。エッチングや成膜など工程ごとに求められる品質基準があります。

■装置メーカーとの共同開発
実際に使われる製造装置に合わせ、薬品の組成や物性、供給方法を一緒に最適化する取り組みです。装置と薬品の“相性”を合わせ込むことで、均一性や加工精度、スループットを高めます。

■一気通貫体制
研究開発、試作、量産、品質保証、出荷までを社内でつなげて実行する体制です。仕様変更の反映が速く、機密管理やトレーサビリティも取りやすくなります。

■リターナブル容器
洗浄・再利用を前提に設計された専用容器です。異物混入や金属汚染を防ぎつつ、物流効率や環境負荷の低減にもつながります。半導体向けでは容器自体の清浄度も重要です。

■出荷前全数検査
出荷する全てのロットを対象に、規定項目（純度、微量金属、粒子、含水など）をチェックする品質管理手法です。抜き取りではなく“全数”で、ばらつきを最小化します。

■3D-NAND向けエッチング材料
多層化した3D-NAND構造の微細孔や配線を加工するためのエッチング用薬品です。高アスペクト比の加工で求められる選択比や等方・異方特性に合わせて設計されます。

■High-k材料
誘電率（k）が高い材料で、ゲート絶縁膜などに用いられます。薄膜でも容量を確保でき、リーク電流を抑える目的で採用されます。対応する前駆体や処方の純度管理が重要です。

■CVD材料
Chemical Vapor Deposition（化学気相成長）で薄膜を形成するための前駆体薬品です。温度や圧力、ガス流量などプロセス条件に合わせ、分解性や反応性が最適化されています。

■南アルプス事業所
量産と自動化を見据えた国内拠点です。新規エッチング材や成膜前駆体の増産、工程の安全・省力化、安定供給力の強化を目的に整備されます。

■Scope1・2
事業活動に伴う温室効果ガス排出区分のうち、自社が直接燃料を燃やして出す排出（Scope1）と、購入した電力・熱の使用に伴う間接排出（Scope2）を指します。削減目標の基準として用いられます。