2026.08.26更新

ストーリー・沿革

価値創造に関する情報ソースがAIによって要約されています。 情報ソース： 2026 統合報告書

サマリ

最先端半導体向け高純度化学材料の専門メーカーです。約2,000品目の少量多品種・高付加価値製品に特化しています。顧客や装置メーカーとの共同開発と自社での内製化体制により、高い営業利益率を維持しています。南アルプス事業所の本格稼働や生成AI向け材料の供給拡大により、持続的な成長を目指します。

目指す経営指標

・2029年1月期までに売上高317億円
・2029年1月期までに営業利益86.5億円
・売上高営業利益率25％程度の水準を維持
・2030年度までに新製品開発等25件
・2026年度までに長期休暇取得率85％
・2026年度までに男性育児休業取得率100％
・2026年度までに離職率2％以下を維持
・2026年度までに健康診断の受診率100％
・2030年度までにScope 1・2の二酸化炭素排出量42％削減（2024年度比）
・2030年度までにScope 3の二酸化炭素排出量25％削減（2024年度比）
・2050年までにカーボンニュートラル達成

用語解説

■ゆとり創造
科学技術を通じて最先端テクノロジーの発展に貢献し、人々に経済的・心理的なゆとりをもたらすことで、持続可能で豊かな社会の実現を目指すトリケミカル研究所の経営理念です。

■Materials of Material
化学の力を通じて顧客と社会の課題をともに解決することを目指すトリケミカル研究所の長期ビジョンです。デジタル産業の発展と持続可能な社会に必要不可欠な存在であり続ける姿勢を表しています。

■足し算の経営
持ち前の研究開発力を活かしてニッチな製品開発に投資し、少量多品種のスモールマーケットを一つひとつ積み重ねることで、着実に売上と高収益を拡大していく経営手法です。

■High-k材料
主にDRAMの絶縁膜やキャパシタの微細化に用いられる高誘電率の成膜用化学材料です。半導体の極限までの薄膜化において漏電を抑え込む機能を果たします。

■Metal材料
先端ロジックICのバリアメタルや、最先端パッケージ構造における微細配線層の形成などに用いられる金属系の高付加価値化学材料です。

■クライオエッチング材料
極低温（Cryo）環境下でのエッチングプロセスに対応した新規化学材料です。大容量化が進む次世代3D NANDフラッシュメモリなどの製造において、高い選択比と安定した加工に貢献します。
2026年1月期有価証券報告書より

沿革

 

２ 【沿革】

　

年  月

概          要

1978年12月

無機化学工業製品の製造・精製・販売を目的として神奈川県相模原市(現神奈川県相模原市中央区)に㈱トリケミカル研究所(資本金2,500千円)を設立

1979年12月

光ファイバー用原材料における水分（OH基）の除去に成功、供給を開始

1982年８月

光ファイバー用硼素原材料としての三塩化硼素の合成に成功、供給を開始

1983年２月

三塩化硼素の量産化に成功、半導体用エッチング材料として半導体業界への供給を開始

1984年３月

本社工場を神奈川県愛甲郡愛川町に移転

1984年９月

化合物半導体材料としての高純度三塩化砒素の供給を開始

1994年１月

東京都江東区(後に東京都港区に移転)に臭化水素製造の目的でテイサン㈱(現日本エア・リキード(同))との合弁で関連会社㈱エッチ・ビー・アールを設立

1994年11月

本社工場を山梨県北都留郡上野原町(現山梨県上野原市)に移転

2000年10月

本社工場にて「ISO9001」を取得

2007年８月

㈱大阪証券取引所  ニッポン・ニュー・マーケット―「ヘラクレス」に上場

2008年７月

本社工場にて「ISO14001」を取得

2008年11月

山梨県上野原市に上野原第二工場を建設

2010年10月

大阪証券取引所ヘラクレス市場、同取引所ＪＡＳＤＡＱ市場及び同取引所ＮＥＯ市場の各市場の統合に伴い、大阪証券取引所ＪＡＳＤＡＱ（スタンダード）に株式を上場

2011年６月

上野原第二工場にて「ISO14001」を取得

2011年11月

上野原第二工場にて「ISO9001」を取得

2013年７月

東京証券取引所と大阪証券取引所の現物市場の統合に伴い、東京証券取引所ＪＡＳＤＡＱ（スタンダード）に株式を上場

2013年12月

大韓民国城南市(後に水原市に移転)に韓国事務所を開設

2016年７月

大韓民国世宗特別自治市に同国における半導体用次世代材料の開発、製造及び販売の目的で、SK Materials Co., Ltd.(現SK Inc.)との合弁で関連会社SK Tri Chem Co., Ltd.を設立

2017年３月

台湾新竹縣竹北市(後に苗栗縣銅鑼郷に移転)に100％子会社の三化電子材料股份有限公司を設立

2018年１月

東京証券取引所市場第一部へ市場変更

2020年７月

三化電子材料股份有限公司が台湾苗栗縣銅鑼郷に工場を建設

2020年９月

山梨県上野原市にAnnex棟を建設

2022年４月

東京証券取引所の市場区分見直しに伴い、東京証券取引所プライム市場に株式を上場

2022年７月

当社にて「ISO45001」を取得

2024年８月

中華人民共和国上海市に100％子会社の上海特李化学科技有限公司を設立

2025年３月

山梨県南アルプス市に南アルプス事業所を建設

2025年９月

中華人民共和国安徽省合肥市に同国における先端半導体材料等の研究開発、生産及び販売の目的で、合肥安德科銘半導体科技有限公司との合弁で関連会社安徳拓化 (安徽) 電子材料有限公司を設立

 

　

関係会社

 

４ 【関係会社の状況】

 

名称

住所

資本金又は
出資金

主要な事業
の内容

議決権の
所有
〔被所有〕
割合(％)

関係内容

(連結子会社)

 

 

 

 

 

三化電子材料股份有限公司

（注）１，２

台湾

苗栗縣銅鑼郷

 

百万台湾

ドル

700

台湾における高純度化学薬品の開発・製造及び販売

100.0

当社よりの役務の提供及び製品の販売

当社より資金を貸付

役員の兼任　２名

(持分法適用関連会社)

 

 

 

 

 

SK Tri Chem Co., Ltd.

大韓民国
世宗特別自治市

百万韓国
ウォン

25,000

 

韓国における高純度化学薬品の開発・製造及び販売

35.0

当社よりの役務の提供及び製品の販売、

SK Materials Co., Ltd.

(現SK Inc.)との合弁で設立
役員の兼任  ２名

(持分法適用関連会社)

 

 

 

 

 

㈱エッチ・ビー・アール

東京都港区

百万円

30

 

臭化水素の製造・販売

49.0

臭化水素の製造、当社よりの役務の提供、テイサン㈱(現日本エア・リキード(同))との合弁で設立
役員の兼任  ２名

(持分法適用関連会社)

 

 

 

 

 

安徳拓化 (安徽)

電子材料有限公司

中華人民共和国

安徽省合肥市

百万人民元

100

中国における高純度化学薬品の開発・製造及び販売 

33.0

当社よりの役務の提供及び製品の販売、

合肥安德科銘半導体科技有限公司との合弁で設立

 

(注）１　特定子会社であります。

２　三化電子材料股份有限公司については、売上高（連結会社相互間の内部売上高を除く）の連結売上高に占める割合が10％を超えております。

主要な損益情報等

①　売上高

3,747,546

千円

 

②　経常利益

63,532

 〃

 

③　当期純利益

50,351

 〃

 

④　純資産額

2,144,202

 〃

 

⑤　総資産額

5,215,142

 〃